振动抛光可去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层，消除样品的表面应力，提高样品表面光洁度。对于电子背散射衍射 (EBSD)分析、原子力显微镜（AFM）分析、电镜（SEM）分析等，前序样品制备非常有效。 同时，振动抛光因其优异的机械-化学抛光效果，适合大部分材料的精抛和终抛，尤其适用于软质和韧性材料，如纯钛及钛合金、纯铝及铝合金、纯铜及铜合金、镍基合金、高温合金等。

二、技术参数：
1、型号：ZDP-300
2、机体形式：台式
3、控制方式：触摸屏控制

4、抛盘尺寸:305mm
5、抛光直径：8-50mm（特殊尺寸可定制）
6、主机功率：1.5KW
7、频率调节：自动
8、电压调节：自动
9、电源 ：220V

三、标准配置：
1、主机：一台
2、精密抛光布：一块（主机内）
3、样块辅具：一套
4、纳米抛光液：一瓶
5、电源线：一条
6、备用保险管：一只（主机电源插口内）
7、技术文件：一份